电子束曝光仿真，需要针对衬底和抗蚀剂有材料库或者自定义，对电子束定义为双高斯和三高斯（可选择），分析曝光过程中电子的弹性散射与非弹性散射，同时可进行PEC矫正并图形化。伴随卷积神经网络优化仿真。