电子束曝光仿真,需要针对衬底和抗蚀剂有材料库或者自定义,对电子束定义为双高斯和三高斯(可选择),分析曝光过程中电子的弹性散射与非弹性散射,同时可进行PEC矫正并图形化。伴随卷积神经网络优化仿真。
电子束曝光仿真,需要针对衬底和抗蚀剂有材料库或者自定义,对电子束定义为双高斯和三高斯(可选择),分析曝光过程中电子的弹性散射与非弹性散射,同时可进行PEC矫正并图形化。伴随卷积神经网络优化仿真。
电子束曝光仿真,需要针对衬底和抗蚀剂有材料库或者自定义,对电子束定义为双高斯和三高斯(可选择),分析曝光过程中电子的弹性散射与非弹性散射,同时可进行PEC矫正并图形化。伴随卷积神经网络优化仿真。
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